氧化铜,99.995% trace metals basis,powder

产品编号： 1507410 纯度：99.995% trace metals basis, powder CAS：1317-38-0

英文名称：Copper oxide, 99.995% trace metals basis, powder

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5g	￥ ƞżőǮƴƴ	1	--	> 10	--	--	--	--	￥ ƞżőǮƴƴ	- +
10g	￥ őǟƞǮƴƴ	1	--	> 10	--	--	--	--	￥ őǟƞǮƴƴ	- +
25g	￥ ƩƴçłǮƴƴ	1	--	> 10	--	--	--	--	￥ ƩƴçłǮƴƴ	- +
50g	￥ ƩǟǟǟǮƴƴ	1	--	> 10	--	--	--	1	￥ ƩǟǟǟǮƴƴ	- +
100g	￥ żƞłƴǮƴƴ	1	--	8	--	--	--	--	￥ żƞłƴǮƴƴ	- +
500g	￥ çżőƴǮƴƴ	1	--	1	--	--	--	--	￥ çżőƴǮƴƴ	- +
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产品名称：Copper oxide, AR, 99% 纯度：AR,99%

产品编号：1507407

CAS号：1317-38-0

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现货

基本信息
属性
计算化学
参考文献
安全信息

产品编号

1507410

CAS 号

1317-38-0

英文名称

Copper oxide, 99.995% trace metals basis, powder

中文名称

氧化铜,99.995% trace metals basis,powder

英文别称

CUPRIC OXIDE WIRE-FORM, REAGENT (ACS)

中文别称

二氧化銅

Smiles Code

[Cu]=O

MDL 号

MFCD00010979

分子式

CuO

分子量

79.55

存储条件

Store at room temperature, keep dry and cool

纯度

99.995% trace metals basis, powder

网页展示纯度为入库指导纯度值，各批次间存在一定差异，实际纯度以收货为准

熔点

1326 °C

沸点

闪点

旋光

描述

用作颜料、石油气脱硫、电镀电极、冶金助熔剂、光学玻璃抛光剂和有机反应中的催化剂氧化铜（II）用作吸附剂和吸收剂、颜料、防污剂、木材防腐剂、光学玻璃抛光剂、青铜材料的焊剂、农药和磨料。用于制备中间体、氧化剂/还原剂、表面处理剂和工艺调节剂。它可用于制造人造丝、荧光粉和干电池。它在某些具有工业重要性的化学反应中用作催化剂。它还用于化学传感器和超导材料。氰化物、二噁英和卤代烃等有害物质可以通过氧化铜处理。

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TPSA

17.07

LogP

-0.1213

H_Acceptors

H_Donors

Rotatable_Bonds

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